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二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

 二氧化硫与溴水反应方程式和离子方程式,二氧化硫与溴水反应方程式双线桥 金(jīn)融界4月(yuè)24日消息,国家知识产权(quán)局局长申长雨在(zài)新闻发布会上表示,将统筹(chóu)推进各类知识(shí)产权法(fǎ)律法规(guī)和制度规(guī)则的(de)制(zhì)修(xiū)订工作。其中,修改完善集成电路(lù)布(bù)图设计保护(hù)条例(lì),适应大规模集成电路发展需要,助(zhù)力芯片产(chǎn)业做大做强,服务数字经(jīng)济更好发展(zhǎn)。

  加强大(dà)数据、人工(gōng)智(zhì)能、基因技术等新领域新业态(tài)知识产权(quán)规(guī)则研究(jiū),助力相(xiāng)关领域创(chuàng)新发展。同时(shí),积(jī)极参(cān)与知识产权国际(jì)规则(zé)制定(dìng),更好对接高标准国际(jì)经贸(mào)规则,助(zhù)力高水平对外开放。

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