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蜗牛是不是昆虫类

蜗牛是不是昆虫类 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看(kàn)一则突发(fā)消息。

  美(měi)光公司在华(huá)销售的产(chǎn)品(pǐn)未通(tōng)过(guò)网(wǎng)络(luò)安全审查

  据网信办(bàn)消息,日前,网络安全审查(chá)办公室依法对美光公(gōng)司在华(huá)销售产品进(jìn)行了网络安全(quán)审查(chá)。

  审查发现,美光公司产品存在较严重网络安(ān)全问题隐患,对我国关键信(xìn)息基础(chǔ)设施供应链造成重大(dà)安全风险,影响我国国家安全。为此,网络安(ān)全(quán)审查办公室依法作出不予通过网络(luò)安(ān)全审(shěn)查的结论(lùn)。按照《网(wǎng)络(luò)安(ān)全法(fǎ)》等法律法规,我国(guó)内(nèi)关键信(xìn)息基础(chǔ)设施(shī)的运营(yíng)者应停(tíng)止采购(gòu)美光公司产品。

  此(cǐ)次对美光公司产品(pǐn)进(jìn)行网络安全(quán)审(shěn)查,目的是防(fáng)范(fàn)产品网络安全问题危(wēi)害国家(jiā)关键信息基础设(shè)施安(ān)全,是维护国家安(ān)全的必要措施。中国坚(jiān)定推进高(gāo)水平对外(wài)开放(fàng),只要遵守中国(guó)法律法规要求(qiú),欢迎各国(guó)企业、各类平台产品服务进入中国市场。

  半导体突发!中国出手(shǒu):停止采购!

  3月31日(rì),中国网(wǎng)信(xìn)网发文称,为保障关键信息基(jī)础设施供应链安全,防范产品问题隐(yǐn)患(huàn)造(zào)成网络安全风险,维护国家安全,依(yī)据《中华人(rén)民共和国国家安(ān)全法》《中华人民共(gòng)和国网络安(ān)全法》,网络安全审查办公(gōng)室按照《网络安全(quán)审查办法》,对美光公司(Micron)在华销(xiāo)售的产(chǎn)品实施网络安(ān)全审查。

  半导(dǎo)体突发!中(zhōng)国出手:停(tíng)止(zhǐ)采购(gòu)!

  美(měi)光(guāng)是美国的(de)存储芯片行业龙头,也是全球(qiú)存储芯片巨头之一,2022年收入来(lái)自中(zhōng)国市场收入从(cóng)此前(qián)高峰57%降至2022年约11%。根据市场咨(zī)询(xún)机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠(xiá)、西部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪(shǎn)存)市场(chǎng)份额约为 96.76%,三星电子(zi)、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内(nèi)存)市(shì)场份额约为 94.35%。

  A股上市公司中,江(jiāng)波龙(lóng)、佰维存储(chǔ)等公司披(pī)露过(guò)美光等国(guó)际存储厂商(shāng)为(wèi)公司供(gōng)应商。

  美光在江波龙采(cǎi)购占比已经显著(zhù)下(xià)降,至(zhì)少已经不是主要(yào)大(dà)供应商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美光位列江波龙(lóng)第一大存(cún)储晶圆(yuán)供应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波(bō)龙第一(yī)大、第二大(dà)和(hé)第(dì)三大供应商采购金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江(jiāng)波龙已经(jīng)在存(cún)储产业链上(shàng)下游建立国内外广(guǎng)泛合作。2022年年报(bào)显(xiǎn)示,江波龙与(yǔ)三星、美(měi)光、西部(bù)数据等主(zhǔ)要存储晶圆原厂签署了长期(qī)合约(yuē),确保存储晶圆供应(yīng)的稳(wěn)定性,巩固(gù)公(gōng)司在下游市(shì)场的(de)供应优势,公司也与国(guó)内国产存储(chǔ)晶圆原厂武汉长江(jiāng)存储、合肥长鑫(xīn)保持良好的合作。

  有券商此前(qián)就分析,如(rú)果(guǒ)美光在中国区销售受到(dào)限(xiàn)制,或(huò)蜗牛是不是昆虫类将导致(zhì)下(xià)游客户转而采购国外三星、 SK海(hǎi)力士,国(guó)内长江存储、长鑫存储等竞对产品(pǐn)

  分析称,长存、长鑫的上游设备厂或从(cóng)中受益。存储(chǔ)器(qì)的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工(gōng)艺。另外NAND Flash现在(zài)已经进入(rù)3D NAND时(shí)代,2 维到3维的结构转变使刻(kè)蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过薄膜(mó)沉积工艺步骤,同时刻蚀目前(qián)前沿要刻(kè)到 60:1的深孔,未来可(kě)能会更深的(de)孔(kǒng)或者沟槽(cáo),催生更多(duō)设(shè)备需求。据东京电子披露,薄膜沉(chén)积(jī)设备及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开(kāi)支合计(jì)为75%。自(zì)长江存(cún)储被加入美(měi)国限制名(míng)单,设备国产化进(jìn)程加速(sù),看好拓荆科技(jì)(薄膜沉积(jī))等相关公司(sī)份额提升(shēng),以(yǐ)及存储(chǔ)业(yè)务占比较高(gāo)的华海(hǎi)清科(CMP)、盛(shèng)美上(shàng)海(hǎi)(清洗)等(děng)收入增长。

 

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