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纳粹分子是什么意思

纳粹分子是什么意思 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大(dà)家好,来看一(yī)则突发(fā)消息(xī)。

  美光(guāng)公司(sī)在华销(xiāo)售的产(chǎn)品(pǐn)未通过网络安全审查

  据网信(xìn)办消息,日前,网络安全(quán)审查办公室依法对美光公司在华(huá)销售产品进行了(le)网络(luò)安全审查。

  审查发现(xiàn),美光公(gōng)司产品存在(zài)较严(yán)重网络安全(quán)问题隐患,对我国关键信息基(jī)础(chǔ)设施供应链造成重大(dà)安全风险(xiǎn),影响我国国家安(ān)全。为此,网络(luò)安全审查(chá)办公室依法作出不予(yǔ)通(tōng)过网络(luò)安全审查的(de)结论(lùn)。按照《网络安(ān)全法》等法(fǎ)律(lǜ)法规,我国(guó)内关键信息基础设施(shī)的运营者应停止采购美光公司产(chǎn)品。

  此(cǐ)次(cì)对美(měi)光公(gōng)司产品(pǐn)进行(xíng)网(wǎng)络安(ān)全审(shěn)查,目(mù)的(de)是防(fáng)范产品网络(luò)安全(quán)问题危害国家关键信(xìn)息基(jī)础设施安全,是维护国家安全的必要措施。中国坚定推进高水平对(duì)外开放,只(zhǐ)要遵守中国法律(lǜ)法规要求,欢迎各国企(qǐ)业、各类平台产品服(fú)务进入中国市场。

  半导体突发!中国出手:停(tíng)止采购!

  3月31日,中国网信(xìn)网发(fā)文称,为保障关键信(xìn)息(xī)基础设(shè)施供(gōng)应链安全(quán),防范产品问题(tí)隐患造成网络安全风险,维护国(guó)家安全,依据《中华人民共和国国(guó)家(jiā)安(ān)全(quán)法》《中(zhōng)华人民共和国网络安全法》,网(wǎng)络安全审查办公室(shì)按照《网络安全审(shěn)查办(bàn)法(fǎ)》,对(duì)美光公司(Micron)在华销售的(de)产品实施网络(luò)安全纳粹分子是什么意思审查。

  半导体突发!中国出手:停止采购(gòu)!

  美光是美国(guó)的存储芯片行业龙头(tóu),也是全球存储芯片巨头之一(yī),2022年收(shōu)入来自中国市(shì)场收入(rù)从此前(qián)高峰57%降至2022年(nián)约纳粹分子是什么意思11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电(dià纳粹分子是什么意思n)子(zi)、 铠(kǎi)侠、西部数(shù)据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存(cún))市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海(hǎi)力士(shì)、美光在全球 DRAM (内存)市场份额约为(wèi) 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙(lóng)、佰维存(cún)储等公司(sī)披露过美光等(děng)国际存储厂(chǎng)商为公司供应商(shāng)。

  美光在江(jiāng)波龙采购占比已经显著下降,至少(shǎo)已经(jīng)不是主要大供应商(shāng)。

  公告显示(shì), 2021年美光位列(liè)江波龙第一大存储晶圆(yuán)供应(yīng)商,采购约(yuē)31亿元,占(zhàn)比33.52%;2022年,江波龙(lóng)第一大、第二大和第三大(dà)供应商采(cǎi)购(gòu)金额占比分(fēn)别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目(mù)前江波龙已(yǐ)经在(zài)存储产业链上(shàng)下游建立国(guó)内外(wài)广泛合作。2022年年报(bào)显示,江波龙与三星、美光、西(xī)部(bù)数(shù)据等主要存储(chǔ)晶(jīng)圆原(yuán)厂签署了长期(qī)合约,确保存储晶圆供应的稳(wěn)定性,巩固(gù)公司在下游市场的(de)供应优势,公司(sī)也(yě)与国内国(guó)产存(cún)储(chǔ)晶圆原厂(chǎng)武(wǔ)汉长江存储、合(hé)肥长鑫保持良好的(de)合作(zuò)。

  有券商此前就分析,如果美光在中国区销售受到限制,或(huò)将导致下游客户转而采购国(guó)外三星、 SK海力士,国内(nèi)长江存储、长鑫存(cún)储等(děng)竞对(duì)产品

  分析称,长存、长鑫的上游设备厂或从中受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维到3维(wéi)的结构转变(biàn)使刻蚀和薄膜成为(wèi)最(zuì)关键、最大量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜沉(chén)积工艺步骤,同时刻(kè)蚀目前前沿要刻到 60:1的深孔,未(wèi)来可能会更(gèng)深(shēn)的孔或者沟槽(cáo),催生更多(duō)设备需求。据东(dōng)京电子(zi)披(pī)露(lù),薄膜沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本开支(zhī)合计为75%。自长(zhǎng)江存(cún)储(chǔ)被加入美国限制名单,设备国产化进程加(jiā)速,看好拓(tuò)荆科技(jì)(薄(báo)膜沉(chén)积)等相关公司份额提升(shēng),以及存储业(yè)务(wù)占比较高的(de)华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入增(zēng)长。

 

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