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  大家好,来看一则突发消息。

  美光公司在华(huá)销售的产品未通过网(wǎng)络安(ān)全审查

  据网(wǎng)信办消(xiāo)息,日(rì)前,网络安全审查办公室依法对美光公司在华销售产品进行了网络安全审查。

  审(shěn)查发现(xiàn),美(měi)光公司(sī)产品存在较严重网(wǎng)络安全问题隐患,对我(wǒ)国(guó)关键信息基础设施供应链造成重大(dà)安全风险,影响我国国家安全(quán)。为(wèi)此,网络安(ān)全(quán)审查(chá)办(bàn)公室依法作(zuò)出不予通过网络安(ān)全审查的结论(lùn)。按照《网(wǎng)随遇而安下一句是什么意思,顺其自然随遇而安下一句是什么络安全法》等法律法规,我(wǒ)国内关(guān)键信(xìn)息基础设施的运营者应停止(zhǐ)采购美光(guāng)公司(sī)产品。

  此次对美光公(gōng)司产品(pǐn)进(jìn)行网络安全审查,目的是防范产品网络安全问题危(wēi)害国家(jiā)关(guān)键信息基础设施(shī)安全(quán),是(shì)维护(hù)国家(jiā)安全的(de)必要措施。中国坚随遇而安下一句是什么意思,顺其自然随遇而安下一句是什么(jiān)定推进高水平对外(wài)开放,只要遵守中(zhōng)国法律法规要求,欢迎各(gè)国企业、各类平台产(chǎn)品服务(wù)进入中国(guó)市场。

  半(bàn)导体突发!中国出手:停止(zhǐ)采购!

  3月31日,中国网(wǎng)信网发文称,为保障(zhàng)关键信息基础设施供应链安全,防范产品问题(tí)隐(yǐn)患造(zào)成(chéng)网络安(ān)全风险,维(wéi)护国家安全,依据《中华人民共和国国家安全法》《中(zhōng)华人民共和国网络安全法(fǎ)》,网(wǎng)络安全审(shěn)查办(bàn)公室按照《网(wǎng)络安全审查办法》,对(duì)美(měi)光(guāng)公司(Micron)在华销售的产品实施网络(luò)安全审查(chá)。

  半(bàn)导体(tǐ)突发!中(zhōng)国出手:停止采(cǎi)购!

  美光是美国(guó)的存储芯片行业龙头,也是全球存(cún)储芯(xīn)片巨头之一,2022年收(shōu)入来自中国市场收入从此(cǐ)前高峰57%降至2022年约(yuē)11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三(sān)星电子(zi)、 铠侠、西部数(shù)据、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份(fèn)额(é)约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力(lì)士、美光在全球 DRAM (内(nèi)存)市(shì)场份额约为(wèi) 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙、佰维存储等公司披(pī)露过美光等国际存储厂商为(wèi)公司供应商。

  美(měi)光在江(jiāng)波龙采购(gòu)占比(bǐ)已经(jīng)显著下(xià)降,至少(shǎo)已经(jīng)不是主(zhǔ)要大供应商(shāng)。

  公告显(xiǎn)示, 2021年(nián)美光位列(liè)江波龙第一大存(cún)储(chǔ)晶(jīng)圆供应商(shāng),采(cǎi)购约31亿(yì)元,占比33.52%;2022年,江波(bō)龙第一大、第二大和第三大(dà)供应商采购(gòu)金(jīn)额占(zhàn)比(bǐ)分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目(mù)前江波(bō)龙已经在存储产业链上下游建立国内外广泛(fàn)合作。2022年年报显示,江波龙与三星、美光、西(xī)部数据(jù)等主要存(cún)储(chǔ)晶(jīng)圆原厂签(qiān)署了长期(qī)合约(yuē),确保存储晶圆供应的(de)稳定性(xìng),巩固公(gōng)司在下(xià)游市场的供应优势(shì),公司也与国内国(guó)产(chǎn)存储晶圆原厂(chǎng)武(wǔ)汉长(zhǎng)江存(cún)储、合肥长鑫(xīn)保持良好(hǎo)的合作(zuò)。

  有券(quàn)商(shāng)此前就分析,如果美光在中国(guó)区销售受到限制,或将导致(zhì)下(xià)游客户转(zhuǎn)而采购国外(wài)三星、 SK海力士,国(guó)内(nèi)长江存储、长鑫(xīn)存(cún)储等竞对产品

  分析称,长存、长鑫的上游(yóu)设备厂或从中受益(yì)。存储(chǔ)器(qì)的(de)生产已(yǐ)经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现(xiàn)在已经进(jìn)入3D NAND时代,2 维到(dào)3维(wéi)的(de)结构(gòu)转变使刻(kè)蚀和(hé)薄膜(mó)成为最关键、最(zuì)大量的(de)加(jiā)工设(shè)备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻(kè)蚀(shí)目前前沿要刻(kè)到(dào) 60:1的深(shēn)孔,未来可能会更深的孔或者沟槽,催生更多设备需求。据(jù)东京电子披露,薄膜沉积设(shè)备(bèi)及刻(kè)蚀占(zhàn)3D NAND产线资本开支合计为75%。自(zì)长江存储被加(jiā)入美(měi)国限制名单(dān),设备国产(chǎn)化(huà)进程加速,看好(hǎo)拓荆(jīng)科技(薄膜沉积)等相关公司份额提升,以及存(cún)储业务占比较高的华(huá)海(hǎi)清科(CMP)、盛美(měi)上海(hǎi)(清洗(xǐ))等收(shōu)入增长。

 

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